真空应用技术部,技术力量雄厚,具有十几年丰富的真空设备的设计及生产经验,产品涉及电真空器件的生产设备、镀膜生产设备、超高真空科研生产设备及各种超高真空标准件。能按照客户的要求,设计制造。生产的各种产品已广泛应用于国家科研部门,得到了很高的评价。本公司具备很强的非标设计能力,可以根据用户具体要求,设计制造非标产品。本公司制造的真空应用设备广泛应用于航空航天、电子信息、原子能、科学研究、建筑装潢、机械汽车、光学、能源等行业。设备工作稳定可靠,深受用户好评。
(1)双位高频除气台
系统主要性能指标:
1、空载极限真空度5×10-5Pa
2、系统为双位结构,可分别工作。主抽泵分别为600L及1500L分子泵,前级为8L机械泵。
3、高频加热指标;最大功率30KW,工作频率300~500KHZ,交流电源380V50A。
4、用于超导膜的制造及各种镀膜试验
(2)阴极真空预处理台(主要用于阴极预处理及试验二极管排气)
系统主要性能指标:
1、空载极限真空度5×10-6Pa
2、启动30分钟后系统真空度8×10-4Pa
3、烘箱温度:450℃
(3)等离子沉积系统:
系统主要性能指标:
1、极限真空度1Pa
2、配置直联泵及罗茨泵
3、系统包括样品水冷转盘、水冷挡板、水冷快速探头等
(4)真空炉
系统主要性能指标:
1、极限真空度6×10-4Pa
2、温度范围:950℃~1200℃可控,温度均匀性±10℃
3、真空腔体Φ350×300
4、用于真空退火、真空钎焊和真空除气
(5)、程控排气台系统主要性能指标:
1、系统极限真空度5×10-9Pa
2、烘箱极限真空度<2Pa
3、烘箱尺寸Φ500×1200
4、可按用户需要配置电源,设置温控曲线及工艺控制、记录。